- 磁控濺射鍍膜儀
- 熱蒸發鍍膜儀
- 高溫熔煉爐
- 等離子鍍膜儀
- 可編程勻膠機
- 涂布機
- 等離子清洗機
- 放電等離子燒結爐
- 靜電紡絲
- 金剛石切割機
- 快速退火爐
- 晶體生長爐
- 真空管式爐
- 旋轉管式爐
- PECVD氣相沉積系統
- 熱解噴涂
- 提拉涂膜機
- 二合一鍍膜儀
- 多弧離子鍍膜儀
- 電子束，激光鍍膜儀
- CVD氣相沉積系統
- 立式管式爐
- 1200管式爐
- 高溫真空爐
- 氧化鋯燒結爐
- 高溫箱式爐
- 箱式氣氛爐
- 高溫高壓爐
- 石墨烯制備
- 區域提純爐
- 微波燒結爐
- 粉末壓片機
- 真空手套箱
- 真空熱壓機
- 培育鉆石
- 二硫化鉬制備
- 高性能真空泵
- 質量流量計
- 真空法蘭
- 混料機設備
- UV光固機
- 注射泵
- 氣體分析儀
- 電池制備
- 超硬刀具焊接爐
- 環境模擬試驗設備
- 實驗室產品配件
- 實驗室鍍膜耗材
- 其他產品
CY-A1200-10L 1200℃可控氣氛馬弗爐設計用于可控惰性氣體氣氛下的材料合成，*高溫度可達1200℃，溫度均勻性更好。采用上等氧化鋁纖維磚和進口電阻絲加熱元件，尺寸為200*200*200mm，以及真空密封鋼殼。
技術參數：
|
產品名稱 |
1200℃10L高溫惰性箱式氣氛爐 |
|
產品型號 |
CY-A1200-10L |
|
控制器 |
CYKY自研專業級控制系統 |
|
爐膛尺寸 |
200*200*200mm |
|
*高溫度 |
1200℃ |
|
額定溫度 |
Rm~1200℃ |
|
加熱速度 |
0-20℃ (建議 10℃/min) |
|
控溫 |
30個可編程及PID自動控制 |
|
溫度均勻性 |
± 5℃ |
|
加熱元件 |
電阻絲 |
|
熱電偶 |
K型類 |
|
爐殼結構 |
雙爐殼并配備冷卻風扇 |
|
水冷能力 |
50w/ ℃ |
|
水槽容量 |
9L |
|
冷卻水流速 |
15L/min |
|
氣氛可接受 |
氮氣、氬氣等惰性氣體。禁止插入還原氣體 |
|
電壓 |
AC220V,50/60Hz |
|
尺寸 |
805x850x1100(mm) |
|
重量 |
200Kg |
