產品分類
- 磁控濺射鍍膜儀
- 熱蒸發鍍膜儀
- 高溫熔煉爐
- 等離子鍍膜儀
- 可編程勻膠機
- 涂布機
- 等離子清洗機
- 放電等離子燒結爐
- 靜電紡絲
- 金剛石切割機
- 快速退火爐
- 晶體生長爐
- 真空管式爐
- 旋轉管式爐
- PECVD氣相沉積系統
- 熱解噴涂
- 提拉涂膜機
- 二合一鍍膜儀
- 多弧離子鍍膜儀
- 電子束，激光鍍膜儀
- CVD氣相沉積系統
- 立式管式爐
- 1200管式爐
- 高溫真空爐
- 氧化鋯燒結爐
- 高溫箱式爐
- 箱式氣氛爐
- 高溫高壓爐
- 石墨烯制備
- 區域提純爐
- 微波燒結爐
- 粉末壓片機
- 真空手套箱
- 真空熱壓機
- 培育鉆石
- 二硫化鉬制備
- 高性能真空泵
- 質量流量計
- 真空法蘭
- 混料機設備
- UV光固機
- 注射泵
- 氣體分析儀
- 電池制備
- 超硬刀具焊接爐
- 環境模擬試驗設備
- 實驗室產品配件
- 實驗室鍍膜耗材
- 其他產品
文章詳情
真空鍍膜設備的產品特點
日期：2025-07-29 01:05
瀏覽次數：968
摘要：
真空鍍膜設備，主要指一類需要在較高真空度下進行的鍍膜，具體包括很多種類，包括真空離子蒸發，磁控濺射，MBE分子束外延，PLD激光濺射沉積等很多種。主要思路是分成蒸發和濺射兩種。
產品特點
采用箱式結構，真空系統后置，便于操作和維修；整機表面平整，方便清潔，特別適合放置在凈化間內做穿墻式安裝。
設備真空系統抽速大，具有抽氣時間短，真空度高，生產周期短等優點。
采用管狀加熱器上烘烤，烘烤溫度均勻，壽命長，可達到烘烤溫度350℃，烘烤均勻性270℃±10℃。
工件轉動采用上部中心驅動，軸承帶水冷，磁流體密封，轉動平穩。
采用石英晶體膜厚控制儀，可實現鍍膜過程的自動控制。
