粉體包覆磁控鍍膜儀是通過粉體在濺射腔室內的旋轉，以達到粉體表?均勻包覆的效果。

腔室可旋轉、傾斜，能快速出料。粉體包覆是指將?種或多種粉體顆粒投?到包覆設備中，通過物理或化學?法形成?層覆蓋在顆粒表?的物質。粉體包覆的?的可以是改變顆粒表?的性質、增加顆粒的穩定性、控制顆粒的釋放速率等。

設備特點

可旋轉高純石英反應腔，內帶石英擋板，使樣品在不停的翻滾過程中，受熱更充分、鍍膜更均勻。

配備紅外加熱模塊，可實現快速升溫

設備參數

供電電壓		AC220V，50Hz
整機功率		3KW
系統真空		≦5×10-4Pa
磁控靶槍	靶材尺寸	直徑Φ50.8mm，厚度≦3mm
	冷卻模式	循環水冷
	水流大小	不小于10L/Min
	數量	1
真空腔體	腔體尺寸	直徑φ100Xφ150Xφ100mm
	腔體材質	高純石英
旋轉速度		0-20rpm
傾斜角度		0-15°
氣體控制		1路質量流量計用于控制Ar流量，量程為:200SCCM
真空系統		配分子泵系統1套，氣體抽速600L/S
濺射電源		RF電源,功率300W*1
控制系統		CYKY自研專業級控制系統
設備尺寸		1800*630*1100
設備重量		200kg